 | В этой статье не процитировать какие - либо источники . ( июнь 2019 г. ) ( Узнайте, как и когда удалить это шаблонное сообщение ) |
В фотолитографии , вне оси освещения является оптической настройки системы , в которой поступающий свет попадает на фотомаски под косым углом , а не перпендикулярно к ней, то есть, падающий свет не параллельна оси оптической системы.
Преимущества внеосевого освещения можно объяснить в контексте того, что узор на фотошаблоне представляет собой дифракционную решетку с малым шагом. Свет, падающий на решетку, рассеивается в разных направлениях. Если падающий свет направлен под нормальным углом (вдоль оси оптической системы), то нулевой порядок дифрагирования продолжает оставаться вдоль оси оптической системы, в то время как другие порядки дифрагируются вбок, причем величина отклонения увеличивается как шаг решетки уменьшается. При достаточно малом шаге только нулевой порядок дифракции проходит через проекционную линзу, а остальные порядки теряются. В результате на пластине не создается никакого рисунка, поскольку нулевой порядок дифракции содержит только среднее значение рисунка фотомаски.
Из-за того, что освещение вне оси, все порядки дифракции наклоняются, что повышает вероятность того, что более высокие порядки дифракции могут пройти через проекционную линзу и помочь сформировать изображение маски на пластине.
