Работа выхода

---

Рабо́та вы́хода — разность значений энергий уровня вакуума ${\displaystyle E_{vac}}$ и уровня Ферми ${\displaystyle E_{F}}$, то есть минимальная энергия, которую необходимо сообщить электрону для его «непосредственного» удаления из объёма твёрдого тела, обычно металла или полупроводника:

Возможные обозначения: ${\displaystyle \phi ,}$ ${\displaystyle W,}$ ${\displaystyle \Phi }$ и другие.

Здесь «непосредственность» означает то, что электрон удаляется из твёрдого тела через данную поверхность и перемещается в точку, которая расположена достаточно далеко от поверхности по атомным масштабам, достаточным чтобы электрон прошёл весь двойной слой, но достаточно близко по сравнению с размерами макроскопических граней кристалла.

Работа выхода ${\displaystyle \phi }$ находится как ${\displaystyle E_{vac}-E_{F},}$ где энергия уровня вакуума берётся на небольшом расстоянии от места выхода электрона из образца, хотя и значительно большем, чем постоянная кристаллической решётки.

При удалении электрона от поверхности его взаимодействие с зарядами, остающимися внутри твёрдого тела, приводит к индуцированию поверхностных зарядов (в электростатике для расчёта взаимодействия применяется «метод изображения заряда»). Удаление электрона на бесконечность происходит в поле индуцированного поверхностного заряда на что требуется дополнительная работа, зависящая от диэлектрической проницаемости вещества, геометрии образца и свойств всех его поверхностей.

При нахождении величины ${\displaystyle \phi }$ удаление от конкретной грани полагается небольшим, и эта дополнительная работа не учитывается. ${\displaystyle \phi }$ оказывается разной для различных кристаллографических плоскостей поверхности вещества. В отличие от ${\displaystyle \phi ,}$ работа по перемещению электрона далее в бесконечность не зависит от того, через какую плоскость был удален электрон, ввиду потенциальности электростатического поля.

---