Исходный файл (967 × 1206 пикселей, размер файла: 1,6 МБ, MIME - тип: изображение / JPEG )
Резюме
Описание4-ФАХ-NAND-C10.JPG
Deutsch: NAND-Gatter mit 4 Eingängen в Transistor-Transistor-Logik; 7 Transistoren auf dem Chip, чистый Strukturbreite 20 мкм (см. Radio Fernsehen Elektronik 10/1990, S. 649)
Дата
Источник
Наша работа
Автор
Дгарте
Лицензирование
Я, владелец авторских прав на это произведение, публикую его под следующей лицензией:
делиться - копировать, распространять и передавать произведение
ремикс - адаптировать произведение
При следующих условиях:
Атрибуция - вы должны указать соответствующий источник, предоставить ссылку на лицензию и указать, были ли внесены изменения. Вы можете сделать это любым разумным способом, но не любым способом, который предполагает, что лицензиар одобряет вас или ваше использование.
делиться одинаково - если вы ремикшируете, трансформируете или опираетесь на материал, вы должны распространять свои материалы по той же или совместимой лицензии, что и оригинал.
Вентиль И-НЕ с 4 входами в транзисторно-транзисторной логике; 7 транзисторов на кристалле, наименьшая ширина структуры 20 мкм (см. Radio Fernsehen Elektronik 10/1990, стр. 649)
Пользователь: Electron9 / Список примеров полупроводниковой шкалы
Шаблон: Процессы производства полупроводников
Глобальное использование файлов
Следующие другие вики используют этот файл:
Использование на ar.wikipedia.org
عملية 1 ميكرومتر
تصنيع عناصر أشباه الموصلات
عملية 10 месяцев
عملية 3 ميكرومتر
عملية 1.5 ميكرومتر
عملية 800 نانومتر
عملية 600 نانومتر
عملية 250 نانومتر
الب: تصنيع عناصر أشباه الموصلات
معالجات 5 نانو
Использование на ca.wikipedia.org
600 нанометров
Plantilla: Fabricació de Semiconductors
Использование на cs.wikipedia.org
22 нанометраů
Шаблона: Половодичные выробные процессы
32 нанометраů
Использование на de.wikipedia.org
Вернер Хартманн (физик)
Использование на fr.wikipedia.org
Лой де Мур
Изготовление полупроводниковых устройств
10 мкм
3 мкм
1,5 мкм
1 мкм
800 нм
Модель: Изготовление палитры для устройств и полупроводников.
22 морских миль
10 нм
32 нм
14 морских миль
45 нм
65 нм
90 нм
130 нм
7 нм
180 нм
250 нм
350 нм
600 нм
5 нм
Использование на ko.wikipedia.org
10 мкм 공정
3 мкм 공정
1,5 мкм 공정
1 мкм 공정
800 нм 공정
600 нм 공정
350 нм 공정
틀: 반도체 제조 공정
250 нм 공정
180 нм 공정
130 нм 공정
90 нм 공정
Посмотреть более глобальное использование этого файла.
Метаданные
Этот файл содержит дополнительную информацию, вероятно, добавленную с цифровой камеры или сканера, которые использовались для ее создания или оцифровки.
Если файл был изменен по сравнению с исходным состоянием, некоторые детали могут не полностью отражать измененный файл.